传美扩大半导体设备出口中国禁令 专家:一箭三雕

www.witata.com | 08/01/2022 02:16 | 来源: 世界日报 | 已有(0)点评| |


中国晶圆代工厂中芯成功量产7纳米芯片,传出美国扩大对中国半导体设备出口管制因应。产业专家认为,除了逻辑芯片,也会影响中国的DRAM和3D NAND Flash,堪称「一箭三雕」,这将使中国半导体中长期发展面临重重阻碍。

美国先前限缩中国取得半导体先进制程设备,但即使缺少荷兰艾司摩尔(ASML)的极紫外光(EUV)设备,中芯仍传出在先进制程技术发展上获重大突破,已量产出货7纳米芯片1年多时间,震撼各界。

光刻机是半导体生产的重要设备,EUV光刻机是推进先进制程的关键;深紫外光(DUV)则用于成熟制程。

台经院产经数据库研究员暨总监刘佩真研判,中芯极有可能利用深紫外光(DUV)设备,加上多层光罩,达到7纳米生产。

刘佩真说,中芯目前7纳米量产产能规模可能还小,良率比较不稳定,且成本非常高昂,7纳米性价比相对不高,并可能受到来自美方管制措施,影响客户下单意愿,实际效应有限。

媒体报导,美国扩大对中国半导体设备的管制,两大半导体设备供应商科林研发(Lam Research)、科磊(KLA)透露,最近收到华府通知,未取得许可证的美企,禁止出售14纳米以下半导体设备给中芯等中企,就连台积电在中国的晶圆代工厂也可能被列入禁售。台积电对此并没有评论。

工研院产科国际所研究总监杨瑞临表示,美国先前已禁止10纳米以下的先进半导体设备出口中国,这次进一步扩大管制范畴至14纳米以下制程,且包括台积电等外商在中国设立的半导体厂也都被纳入管制。

杨瑞临指出,微影、蚀刻及量测检测是半导体最重要的3道制程,其中,微影的EUV设备市场由荷兰艾司摩尔(ASML)独占,科林研发为蚀刻设备龙头,市占率逾5成,科磊为检测设备龙头,市占率也超过5成。

杨瑞临说,观察美国对中国采取的新管制措施,美国应经过深入研究,对中国半导体的管制相当到位,除了逻辑芯片外,对于中国的动态随机访问内存(DRAM)和3D保存型闪存(NAND Flash)也都会有影响,是「一箭三雕」的做法,中国半导体产业中长期发展恐面临重重阻碍。

他表示,韩国内存厂三星(Samsung)和SK海力士(Hynix)都在中国设厂,可能因而受到波及,未来中国厂扩产可能遭受影响。

至于台积电方面,杨瑞临说,台积电南京厂未来扩产是否会受到影响有待观察,不过,台积电生产重镇在台湾,台湾厂在生产效率与成本等方面最具竞争力,预期台积电所受影响应有限。

国泰台湾5G+ ETF基金经理人苏鼎宇也认为,对台积电影响有限,但会增加中芯发展的难度,半导体设备制造商也可能受到影响。至于美国正视中芯可能是拷贝台积电技术这件事,对台积电发展可以正向看待,短期在禁售趋严下成熟制程业务可能增加因应调整的成本,长线对于台积电高端制程竞争力则更有保障。

关键词: 芯片、半导体、设备、管制
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