中芯工程师自曝:问题一大堆

www.witata.com | 09/12/2022 02:50 | 来源: 加国无忧 | 已有(0)点评| |


知名半导体研究顾问SemiAnalysis 分析师向半岛电视台透露,中芯国际工程师自爆,中国自行开发的 DUV曝光机问题一推,目前根本没有制造出功能良好的DUV曝光机。此话等于打脸之前传出中国上海微电子即将量产28奈米 DUV的信息。

《半岛电视台》披露中国大炼被美国围剿的现状。文章指出,美国近期出手多项措施,遏制中国半导体发展先进制程,除了芯片法案鼓励企业在美设厂外,并限制取得补助的企业,10年内不得于中国建造新厂或是扩充低于28奈米的先进制程。

紧接著,美国商务部上个月宣布禁止对中国出口用于3奈米以下制程的EDA软体;上周则限制GPU双雄超微(AMD)、辉达(NVIDIA)高阶人工智慧(AI)芯片出货中国。

对此,《芯片大战》(Chip War: The Fight for the World’s Most Critical Technology一书作者 Chris Miller 认为,美国正试图加强其在世界半导体生态系统中的核心作用,并确保中国无法生产最尖端的芯片。因为掌控半导体不仅将塑造世界经济的未来,同时也军事实力的基础。

报道指出,半导体已成为美中最激烈的战场之一,不仅是现代经济的命脉,还被视为未来技术突破的关键,这意味著未来全球力量平衡可能取决于正在开发的芯片。

对于日前传出中芯国际在7奈米制程获得进展,半导体研究顾问SemiAnalysis 分析师 Dylan Patel 表示,这的确是巨大突破,但缺少一些功能,他们(中芯)需要逐步改进设计,并将生产规模扩大到更高价值的芯片。

而生产更高阶芯片需要荷商ASMLEUV曝光机,现阶段在美国游说下,ASML并未出货EUV给中国,因此中国转而积极囤积DUV,光是去年就狂扫81台。传出中国就是使用DUV来制造高端芯片。

对此,Patel 指出,中芯国际工程师自己泄露了这些机器容易出现问题的投诉,中国并未制造出功能良好的 ArF 曝光机。并强调,中国使用外国设备制造芯片的技术落后很多年,其国产设备更是落后外国几十年。

工研院产业科技国际策略发展所研究总监杨瑞临(Ray Yang也说,中芯国际可以使用 DUV 制造 7奈米芯片,但良率非常低,也不具成本优势。当前因华为不能找外国代工厂,中国严重依赖中芯生产其急需的芯片,可能用于非商业性的特殊用途

关键词: 中芯、半导体、芯片、美国
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